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第407章 惊喜:EBL光刻机!(2/2)

   不过,这个技术非常依赖芯片。

    没有芯片,都是空谈。

    技术领域3,有不少软件是郝强需要的,比如更先进的芯片设计EDA软件、三维设计软件、有限元分析等。

    最后一个技术领域4,郝强翻看了下,总算找到自己需要的了。

    “呼,要是没有的话,晶圆工厂就白搞了!”

    郝强松了一口气。

    他仔细翻阅,发现有他最想要的三项技术。

    半导体晶圆制造技术及工艺、光刻机制造与工艺、芯片制造与工艺。

    半导体有许多种类,郝强选择二氧化硅形成的单晶硅。

    这个技术,包括核心设备单晶炉的制造技术及工艺,技术水平为国际顶尖。

    可拉制12英寸或以上的单晶!

    晶圆纯度:99.999999999%及以上,即11个9及以上。

    只要设备满足,甚至可以达到12个9及以上。

    当然,纯度越高,制造成本就越高。

    一般来说,集成电路行业的半导体硅片对产品质量有极高的要求,纯度必须达到99.9999999%(9个9)以上,最先进的工艺则需要达到99.999999999%(11个9),光伏行业对单晶硅片的需求是99.9999%(6个9),制备难度远远小于半导体硅片。

    别小看一个小数点,它直接影响到能不能制造先进芯片。

    到了2023年时,世界上还不能量产纯度12个9晶圆。

    所以说,纯度11个9以内的单晶硅片,已经足够满足未来20年内的顶尖芯片需求。

    除了单晶炉的制造技术,还有晶圆配套设备如电弧熔炉、石英坩埚、石墨加热器、滤波装置、流水输送设备、切片机、热场等设备的制造技术。

    不过,这些配套设备研制并不难,郝强就算没有技术商店的技术,仅靠公司员工也能研制出来,就是时间耗费长一点而已。

    但能够融合这类技术,最好不过了。

    郝强只是大概浏览半导体晶圆制造技术及工艺,随后浏览光刻机的制造与工艺。

    其实,芯片制造与工艺里面,也有光刻机的制造与工艺,但技术水平较次。

    这跟7级技术商店时,专项悬架系统与汽车减振技术里面的悬架系统技术,也是不一样的。

    所以,郝强干脆选择单项。

    制造芯片的光刻机有许多种,一般是ASML的EUV光刻机(紫光)。

    而他选择的这个光刻机,称为“EBL(电子束)光刻机”,直接绕开EUV光刻机的技术专利。

    它就是新的赛道,其技术在未来几十年内都不会落后。

    越是了解它,越震惊。

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